丹麦NIL成功开发革命光学镜面的MOE镜面设计制造技术

10/16/2021，光纤在线讯，Photonics 报道，丹麦光学公司NIL科技日前宣布开发了一种绝对效率达到94%的META（一种纳米结构材料）光学元件MOE镜面，这被认为是MOE技术发展的一件里程碑式的成就。NIL科技称这也是可以同折射式光学产品相比的首个平面镜面。

NIL表示他们的这种META镜面已经可以交货并实现批量制造，具备完整的相位功能。通过多个MOE镜面堆叠还可以模拟复杂的曲率结构，实现多种设计功能。MOE本身基于玻璃上的硅材料制造，坚固而可靠，具备热稳定特性，支持近红外NIR和短波红外SWIR波段的定制。

NIL表示，他们的MOE镜面设计，成型，组装和批量制造都是在公司内部实现。批量制造基于纳米压印光刻（nanoimprint lithography）技术，这种技术不同于半导体制造，不会对Meta层的尺寸，形状等产生影响，从而确保了设计的自由，此外这种技术还无需昂贵的紫外光刻，从而方便了批量制造。